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高纯镍颗粒：特性、制备与多元应用
镍，作为一种具有银白色光泽的金属，在元素周期表中位居第 28 位，原子量为 58.69。高纯镍颗粒，通常指纯度达到 99.9% 以上（如常见的 4N5，即 99.995% 纯度）的微小镍粒子。
高纯镍靶材-芯片与屏幕背后的“隐形支柱”
高纯镍靶材是一种重要的溅射镀膜材料，广泛应用于半导体、显示面板、太阳能电池等领域。以下是其物理化学特点、主要制备方式及应用的详细说明：
【收藏】蒸发镀膜注意事项
蒸发镀膜是一种常见的镀膜方式，在操作过程中有诸多要点需重点关注
电子束蒸发常见问题及解决方法
电子束蒸发作为物理气相沉积（PVD）的重要技术，在材料表面改性、薄膜制备等领域应用广泛。通过高能量电子束轰击靶材，使其原子或分子获得足够能量蒸发并沉积在基底表面形成薄膜，该技术具有沉积速率高、薄膜纯度高、可蒸发高熔点材料等优点。然而，在实际应用中，电子束蒸发过程会遇到各种问题，影响薄膜质量与生产效率，因此，深入了解并有效解决这些问题十分关键。
高纯铝颗粒：99.99-99.9999%的极致金属力量
在追求材料性能极限的科技浪潮中，99.99%至 99.9999%高纯铝颗粒以其卓越的金属特性，正在成为高端制造领域不可或缺的核心材料。这些闪烁着金属银光的细小颗粒，凝聚着尖端工艺的结晶，为产业升级注入关键动能。
一文了解电子枪和磁控溅射的区别
在材料表面处理领域，真空镀膜技术凭借其独特优势得到广泛应用。作为其中关键的两种镀膜方式，电子枪镀膜和磁控溅射镀膜各有特点，在不同应用场景发挥重要作用。
硅单晶电阻率的均匀性
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离子镀的特点及应用
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聚醚醚酮（PEEK）常见问题解答
聚醚醚酮
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