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常见问题汇总

二氧化钛薄膜：从工业到生活的多面手，应用领域超乎想象
在材料科学的大家庭中，二氧化钛（TiO₂）绝对是一位“多面手”。这种坚硬且耐化学腐蚀的白色钛氧化物，通过溅射靶材沉积形成的二氧化钛薄膜，凭借多样的特性，早已渗透到我们生产生活的方方面面，从高科技产业到日常用品，都能看到它的身影。
揭秘二氧化钛靶材：芯片光刻、光伏心脏的“核心密码”
它不导电，却能“飞溅”出改变世界的光！它坚硬如陶瓷，却能像金属一样被“锻造”！它就是二氧化钛靶材——看似低调，却默默支撑着芯片光刻、光伏发电、手机屏幕、节能玻璃等尖端产业的核心材料。作为金属材料领域的“硬核玩家”，今天我们带您深度解密这块神奇的“金属陶瓷”靶材！
离子注入方式掺杂硅片的缺点有哪些？
离子注入方式掺杂硅片的缺点
高纯钛颗粒特性及应用概述
高纯钛颗粒是指具有极高纯度（通常≥99.995%，即4N5或更高）的细小金属钛固体颗粒。这种高纯度赋予了它们区别于普通工业钛（如Gr1-Gr4）的特殊性能，使其成为高端科技领域不可或缺的关键原材料。
金片的特点应用
金片的特点应用
为什么单晶硅会分为P型和N型？
单晶硅会分为P型和N型？
高纯镍颗粒：特性、制备与多元应用
镍，作为一种具有银白色光泽的金属，在元素周期表中位居第 28 位，原子量为 58.69。高纯镍颗粒，通常指纯度达到 99.9% 以上（如常见的 4N5，即 99.995% 纯度）的微小镍粒子。
高纯镍靶材-芯片与屏幕背后的“隐形支柱”
高纯镍靶材是一种重要的溅射镀膜材料，广泛应用于半导体、显示面板、太阳能电池等领域。以下是其物理化学特点、主要制备方式及应用的详细说明：
【收藏】蒸发镀膜注意事项
蒸发镀膜是一种常见的镀膜方式，在操作过程中有诸多要点需重点关注
电子束蒸发常见问题及解决方法
电子束蒸发作为物理气相沉积（PVD）的重要技术，在材料表面改性、薄膜制备等领域应用广泛。通过高能量电子束轰击靶材，使其原子或分子获得足够能量蒸发并沉积在基底表面形成薄膜，该技术具有沉积速率高、薄膜纯度高、可蒸发高熔点材料等优点。然而，在实际应用中，电子束蒸发过程会遇到各种问题，影响薄膜质量与生产效率，因此，深入了解并有效解决这些问题十分关键。

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