中诺新材在线商城

中诺产品

中诺产品
技术资料

登录

我的购物车 (0)

购物车还没有商品，赶紧选购吧

首页 > 技术服务

技术服务分类

钽片厚度与应用场景分析
钽片厚度的选择与其应用场景密切相关，主要取决于所需的机械强度、耐腐蚀性、电性能、加工要求以及成本。
高纯钽颗粒的多元应用领域解析
高纯钽颗粒凭借高熔点、耐腐蚀性、生物相容性及稳定电学性能等特质，在多个关键领域有广泛应用。
高纯钨片-特性赋能下的多行业应用全景
在半导体制造进程中，高纯钨片堪称极为关键的材料。一方面，它常被加工成钨溅射靶材，用于芯片制造里的物理气相沉积工艺。
高纯铜的应用
在现代科技精密运转的核心深处，流淌着一种近乎“纯净”的金属血液——高纯铜。当铜的纯度突破99.99%（4N）的门槛，达到5N（99.999%）、6N（99.9999%）甚至7N（99.99999%）时，它便脱胎换骨。其趋近极限的导电性、导热性、极低的杂质含量（尤其是氧）以及卓越的塑性，使其不再是普通的工业金属，而成为支撑尖端科技与前沿探索的战略基础材料。
钼片的特点及不同厚度的应用场景
钼片是由金属钼（Mo）经轧制、锻造等工艺加工而成的片状材料，因钼本身具有优异的物理、化学性能，钼片在多个工业领域中被广泛应用。
高纯钼靶材：特性卓越，驱动高端制造的核心材料
高纯钼靶材是溅射镀膜工艺的核心耗材，凭借其优异的物理化学特性，在半导体、平板显示、光伏电池、光学镀膜及装饰涂层等高科技领域扮演着不可或缺的角色。其性能的优劣直接影响着薄膜的质量与器件的性能。
高纯钼颗粒：特性卓越，赋能尖端科技的核心材料
在众多难熔金属中，钼以其独特的综合性能脱颖而出。当纯度达到99.95%（4N5）乃至99.99%（4N）以上时，高纯钼颗粒便摆脱了杂质的桎梏，展现出无与伦比的性能，成为现代高科技产业不可或缺的“工业维生素”。
高纯钴颗粒：特性卓越，驱动现代科技的核心材料
高纯钴颗粒凭借其独特的物理化学性质，已成为众多尖端科技和工业领域不可或缺的关键基础材料。其精细的颗粒形态极大地拓展了应用可能性。
高纯钴靶材：特性与应用概述
高纯钴靶材通常指纯度≥99.99%，即4N及以上是物理气相沉积（PVD）技术，特别是磁控溅射工艺中的关键基础材料。其独特的物理化学性质，使其在现代高科技产业中扮演着不可替代的角色。
高纯钽靶材特性及应用概述
高纯钽靶材是物理气相沉积（PVD）技术，特别是磁控溅射工艺中使用的关键材料。它因其独特的物理和化学性质而在多个高科技领域有着不可替代的应用

< 上一页 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 下一页 >

购物指南: 购物流程; 配送方式; 付款方式; 发票问题

服务售后: 服务协议; 隐私政策; 售后政策; 返修/退换货

关于我们: 了解中诺; 企业文化; 加入中诺; 联系我们

服务热线

400-169-8600

地址：北京市海淀区上地东路25号3层

电话：010-52860970

邮箱：info@znxc.cn

关注我们

京ICP备19057082号 © 2016-2019 中诺新材版权所有

联系客服

400-169-8600

销售咨询

销售咨询

售后服务

技术服务

info@znxc.cn