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技术服务分类
  • 钴酸锂靶材的特点及应用领域
    钴酸锂靶材是一种重要的氧化物陶瓷溅射靶材
  • 钴铁硼靶材的特点及应用领域
    钴铁硼（CoFeB）靶材是一种高性能稀土永磁合金靶材，以钴（Co）、铁（Fe）、硼（B）为核心组分，通过调整各元素配比可实现磁性能、力学性能与溅射特性的精准调控，在先进电子与磁存储领域具有不可替代的地位。
  • 钴硅合金靶材的特点及应用领域
    钴硅合金靶材是一类以钴、硅为核心组分，通过调控合金比例（常见Si含量为5%–30%）实现性能定制的功能性溅射靶材，兼具半导体特性、优异的成膜性能和良好的热稳定性，广泛适配微电子、新能源等高端领域的薄膜沉积需求。
  • 钴铌合金靶材的特点及应用领域
    钴铌合金靶材是一种兼具高强度、高耐磨性、优异磁性能和良好溅射成膜特性的功能性溅射靶材，通过调整钴与铌的合金比例，可实现性能的精准调控，满足不同高端领域的应用需求。
  • 钴锰合金靶材的应用领域
    钴锰合金靶材凭借高导电性、强磁性、耐腐蚀等优异性能，经溅射等技术沉积成薄膜后，在电子半导体、新能源、航空航天等多个高科技领域发挥关键作用
  • 钴铜合金靶材的应用领域
    钴铜合金靶材（Co-Cu 靶材）是一种兼具钴的磁性能、耐高温性与铜的高导电性、导热性的功能溅射靶材，通过调控钴铜配比，可实现磁性能、导电性的灵活适配，广泛应用于电子信息、磁性器件、硬质涂层、新能源等高端领域。
  • 钴铬合金靶材的应用领域
    钴铬合金靶材（Co-Cr 靶材）是一类兼具高硬度、耐腐蚀性、磁性能和良好溅射成膜性的高端溅射靶材，凭借其优异的综合性能，在医疗器械、磁记录、电子信息、硬质涂层等领域有着不可替代的应用。
  • 铜硅合金靶材的应用
    铜硅合金靶材（Cu-Si 靶材）是一种重要的溅射靶材，凭借铜的高导电性、导热性与硅的掺杂改性作用，在电子信息、半导体、光伏、显示面板等领域有着关键应用，核心价值是通过溅射镀膜制备高性能薄膜
  • 铝酸镧晶体基片的特点及应用
    铝酸镧（LaAlO₃）晶体基片是当前工业化应用广泛的大尺寸高温超导薄膜衬底材料，凭借晶格匹配性佳、热稳定性强、介电性能优异等特点，在高温超导、微波电子等领域发挥关键作用。
  • 镓酸钕晶体基片的特点及应用
    镓酸钕（NdGaO₃）晶体基片是正交晶系钙钛矿结构的氧化物单晶材料，凭借晶格匹配性佳、稳定性强等突出特点，在高温超导、半导体等领域成为外延生长的核心衬底材料
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