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PVD技术中的几种电源
电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量，在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是最小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台，多则十几台，甚至几十台。
溅射薄膜的特点
镀制的膜层厚度是否可以控制在预定的数值上，称为膜厚可控性。所需要的膜层厚以多次重复性再现，称为膜厚重复性。由于真空溅射镀膜的放电电流和靶电流可以分别控制。通过控制靶电流可以控制膜厚。所以，溅射镀膜的膜厚可控性的重要性较好，能够可靠地镀制预定厚度的薄膜。并且，溅射镀膜可以在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
PVD真空镀膜技术原理及优点
PVD( Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀;通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。
蒸发镀膜可以采用的蒸发源有哪些类型
镀膜行业中可以应用蒸发的方式实现薄膜沉积。利用这种薄膜沉积方法，将用于沉积的源材料在真空中蒸发，蒸汽粒子即可以自由地移动到基材的表面。在到达基材衬底时，蒸发的材料沉降并凝结回固态，在基材上形成薄膜。
PVD前清洗
清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净，确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行。清洗是PVD涂层前必不可少的一道工序，也是PVD涂层生产中最重要的工艺，清洗出了问题，涂层生产不得不延迟、涂层过程可能中断、或涂层结合力出现问题而导致客户投诉和赔偿，尤其是在涂层设备的技术能力不高的情况下，清洗出了问题，更容易发生上述风险。
高真空镀膜设备的环境要求
由于高真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制定的各类真空镀膜设备的行业标准(包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。只有满足了真空镀膜设备对环境的要求，才能使该设备正常运转，加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。
如何清洗石墨坩埚？
石墨坩埚虽然具有体积密度高、耐高温、传热快、耐酸碱腐蚀、耐高温、耐氧化等特点，但对于单个原料的精炼来说，使用坩埚后的清洗工作非常麻烦。清洁石墨坩埚的首要任务是清除坩埚中的化学物质，然后进行清洁。我们需要根据石墨坩埚中残留的物质来决定要清洗什么。
真空镀膜种类及优缺点
真空镀膜种类及优缺点
拉曼光谱经典问题集锦
一、如何用拉曼光谱仪测透明的有机物液体，测试时放到了玻璃片上测出来的结果是玻璃的光谱。 1.我今天还在用激光拉曼测聚苯乙烯，没有出现你说的情况啊是不是玻璃管被污染的厉害？ 2.你测出的玻璃的信号，有没有可能们焦点位置不对？ 3.应该是聚焦位置不对，聚在玻璃上了，我以前也犯过同样的错误。 4.用凹面载玻片，液体量会比较多，然后用显微镜聚焦好就可以了，如果，液体有挥发性，最好液体上用盖玻片，然后，焦点聚焦到盖玻片以下。
【知识】一文读懂拉曼光谱！
分子振动也可能引起分子极化率的变化，产生拉曼光谱。拉曼光谱不是观察光的吸收, 而是观察光的非弹性散射。非弹性散射光很弱，过去较难观测。激光拉曼光谱的出现使灵敏度和分辨力大大提高，应用日益广泛。

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